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化工儀器網>產品展廳>實驗室常用設備>凈化/清洗/消毒>其它凈化/清洗/消毒>WCS-200 晶圓清洗機

WCS-200 晶圓清洗機

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 邁可諾技術有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 WCS-200
  • 產地
  • 廠商性質 代理商
  • 更新時間 2025/7/2 9:23:12
  • 訪問次數 1686
產品標簽

清洗切割鍵合

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半導體化工領域專業(yè)實驗設備供應商:邁可諾是一家富有創(chuàng)新精神的高科技公司,專業(yè)提供光電半導體化工實驗室所需設備耗材的全套解決方案提供商,邁可諾從事開發(fā)、設計、生產并營銷質量可靠的、安全易用的技術產品及優(yōu)質專業(yè)的服務,幫助我們的客戶和合作伙伴取得成功。我們成功的基礎是幫助客戶做出更好的選擇和決定,尊重他們的決定,并協(xié)助他們實現(xiàn)高效率的科研成果,追求豐富有意義的生活。




勻膠機,光刻機,顯影機,等離子清洗機,紫外臭氧清洗機,紫外固化箱,壓片機,等離子去膠機,刻蝕機,加熱板

產地類別 進口 應用領域 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產業(yè),電子/電池

特點:

· 高壓或霧化噴霧清洗

· 擁有觸摸屏界面

· 可重復過程的快速啟動按鈕

· 自動透明蓋

· CDA 和 N2 輸入傳感器

 

WCS-200專為切割后的晶圓清洗而設計。該系統(tǒng)有兩種配置:最大8英寸的晶圓和最大12英寸的晶圓。

晶圓清洗工藝通過觸摸屏進行設置。 用戶可以通過4個步驟對多達50個程序段進行編程:

·

·

· N2干燥

· 旋轉

每個步驟可設置不同的速度和時間參數。


技術參數:

晶圓最大尺寸

8”/12”mm

晶圓清洗參數:

· 速度;

· 加速度;

· 清洗時間;

· 沖洗時間;

· N2干燥時間;


轉速范圍

500-3000 rpm

電源電壓

230VAC 50Hz 5A

CDA供給壓力

0.5-0.6 MPa

CDA 最大消耗量

3 m3/h

CDA 連接管

6 mm

去離子水 供給壓力

0.2-0.3 MPa

去離子水最大消耗量

100 L/h

去離子水連接管

6 mm

真空供應

0.02-0.04 MPa

真空連接管

6 mm

排氣連接管

50 mm

尺寸

900x780x1280 mm

重量

110 kg

 




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